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CVD气相沉积炉 高真空CVD化学气相沉积系统 CVD沉积炉

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聚勒实业
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李经理

产品详情 产品参数

产品简介 此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境

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